Palas®的MFP過濾器測試臺已經(jīng)在開發(fā)和質(zhì)量控制的實際應用中在世界各地經(jīng)過多次驗證。

MFP Nanoplus 4000專門設計用于根據(jù)DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準地測定HEPA和ULPA過濾介質(zhì)的分離效率。

本設備是一種現(xiàn)代且功能強大的納米顆粒測量設備，以U-SMPS形式，進行5 nm到1 µm范圍粒度測量和數(shù)值分析：

使用MFP Nanoplus 4000和UF-CPC冷凝粒子計數(shù)器在原始氣體和清潔氣體中實時測量特定尺寸的分離效率。

MFP Nanoplus 4000餾分分離效率的實時測量具有以下特殊優(yōu)勢：

•   通過測量原始氣體和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的測量時間減半。
•   結(jié)合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原料氣中的高測量濃度可達2,000,000顆粒/立方厘米（單計數(shù)模式），而UF-CPC 50在潔凈氣體低濃度下的高計數(shù)率對應于稀釋系數(shù)為1：200。因此，不再需要常規(guī)的氣溶膠稀釋。

借助通用氣溶膠發(fā)生器UGF 2000，可以使用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產(chǎn)與MMPS范圍相匹配的氣溶膠分布。

測試序列的高度自動化設置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調(diào)整程序，共同提供高度可靠的測量結(jié)果。

MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質(zhì)和小型微型過濾器的模塊化過濾器測試系統(tǒng)?？梢栽诤芏痰臅r間內(nèi)確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負荷，既可靠又具有成本效益。

我們的質(zhì)量細節(jié)

1.使用UGF 2000產(chǎn)生多種氣溶膠，用于KCl/NaCl或DEHS。集成的Nafion干燥系統(tǒng)。通過質(zhì)量流量控制器單獨調(diào)節(jié)產(chǎn)生的煙霧體積流量。

2.氣溶膠中和：Kr-85-370電源或軟X射線充電器XRC 370電暈放電（可選）：可調(diào)節(jié)的離子流適用于不同的質(zhì)量流量?；旌峡諝?，可調(diào)節(jié)流入速度為1.5至40厘米/秒。通過質(zhì)量流量控制器實現(xiàn)監(jiān)視和控制。

3.可移動的氣動過濾器支架，用于快速拆卸和裝載帶有集成式DEMC 2000（差動遷移分類器）的試驗臺。 U-SMPS包含的DEMC 2000（差分電遷移率分類器）對UGF 2000產(chǎn)生的多分散氣溶膠粒徑進行分類。在DEMC 2000的下游僅包含單分散顆粒。DEMC 2000自動調(diào)節(jié)相關粒徑控制單元。

4.使用UF-CPC 200進行高濃度原始氣體測量。為了測量原始氣體中的顆粒數(shù)，UF-CPC 200冷凝顆粒計數(shù)器在單計數(shù)模式下被用于計數(shù)高達2,000,000個顆粒/立方厘米的顆粒。這意味著在*濃度原始氣體測量中不需要稀釋系統(tǒng)。無需長時間或復雜地清潔系統(tǒng)。

5. 使用UF-CPC 50對低濃度進行清潔氣體數(shù)值分布測量
“全流量” UF-CPC 50，針對清潔氣體中的低顆粒濃度（單計數(shù)模式，大10,000個顆粒/ cm3）進行了優(yōu)化。
在UF-CPC的“全流量”顆粒測量中,對整個采樣體積流量進行了全面分析。這意味著在清潔氣體中低顆粒濃度下可以實現(xiàn)很高的計數(shù)率。

Palas®過濾器測試軟件FTControl控制U-SMPS并評估數(shù)據(jù)。

將氣溶膠分布調(diào)整到MPPS范圍
通過適當調(diào)整溶液濃度，可以將生成的粒度分布與MFP Nano + 4000中的相關MPPS范圍相匹配。

圖1：使用DEHS調(diào)節(jié)所需MPPS范圍的粒徑

圖2：在>=140 nm的MPPS范圍內(nèi)的餾分分離效率比較。

•   清晰展示整個測量范圍內(nèi)過濾介質(zhì)的分離效率。
•   測定MPPS范圍。
•   高的測量重現(xiàn)性和可重復性突顯分離效率的微小差異。
•   優(yōu)化的氣溶膠應用，使每次分離效率測量的測量時間短至兩分鐘。
•   分離效率曲線的簡單比較，也可以計算平均值

自動化：

MFP Nano + 4000集成質(zhì)量流量控制器，用于控制體積流量；可以通過FTControl過濾器測試軟件進行自動監(jiān)視和控制。

在過濾器測試期間，還會自動記錄傳感器數(shù)據(jù)，例如過濾器的體積流量和壓差。

驗證原始氣體和清潔氣體中的采樣是否合格：在初始培訓過程中，將演示未經(jīng)過濾的原始氣體和清潔氣體測量符合性驗證。

使用MFP Nano + 4000，可以在MPPS范圍內(nèi)以及整個測量范圍內(nèi)進行餾分分離效率測量。另外，在相關的流入速度下清楚地確定介質(zhì)的相關壓力損失。

規(guī)格參數(shù)：

優(yōu)點：

•    實時測定10 nm以上顆粒的餾分分離效率
•    通過測量原始氣體和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的時間減少一半。
•    無需稀釋！
•    結(jié)合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原始氣體中的高測量濃度可達2,000,000顆粒/立方厘米（單計數(shù)模式），而UF-CPC 50在低濃度潔凈氣體中的高計數(shù)率對應于稀釋系數(shù)為1：200。
•    符合DIN EN 1822-3和ISO 29463-3的可比較的測量結(jié)果
•    方便地使用不同的測試氣溶膠，例如NaCl / KCl或DEHS（其他可根據(jù)要求提供）
•    方便地測量餾分分離效率并確定MPPS范圍
•    測試方法的高重復性
•    靈活的過濾器測試軟件FTControl
•    易于操作，即使未經(jīng)培訓的人員也可以快速使用設備進行操作
•    客戶可以獨立進行清潔
•    設置時間短，吞吐時間快
•    可移動設置，易于在腳輪上移動
•    在交付前驗收測試和交付時明確驗證各個組件和系統(tǒng)的功能
•    運行可靠
•    幾乎不需要維護
•    減少您的運營費用

應用領域：